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Pressure Effect on the Deposition in the a-Si:H Films by PECVD Process for Solar Cell Applications
Acceso Abierto
ART-ART_B
ID Minciencias: ART-0000191728-90
Fuente: Microscopy and Microanalysis
Jairo Plaza Castillo
Abel Garcia Barrientos
Miriam Moreno Moreno
K Y Vizcaíno
Jose Antonio Hoyo Montaño
Guillermo Valencia Palomo
Temas:
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Materials science
Solar cell
Deposition (geology)
Process (computing)
Engineering physics
Optoelectronics
Chemical engineering
Chemical vapor deposition
Computer science
Engineering
Geology
Paleontology
Sediment
Operating system
Publicado: 2015
Citaciones:
2
Altmétricas:
0
Artículo de revista
Analysis of H 2 and SiH 4 in the Deposition of pm-Si:H Thin Films by PECVD Process for Solar Cell Applications
Acceso Abierto
ART-ART_B
ID Minciencias: ART-0000191728-91
Fuente: Microscopy and Microanalysis
Jairo Plaza Castillo
Abel Garcia Barrientos
Miriam Moreno Moreno
Josefina Arellano
K Y Vizcaíno
Jose Luis Bernal Ponce
Temas:
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Materials science
Solar cell
Deposition (geology)
Thin film solar cell
Process (computing)
Thin film
Optoelectronics
Chemical engineering
Nanotechnology
Engineering
Computer science
Geology
Paleontology
Sediment
Operating system
Publicado: 2016
Citaciones:
1
Altmétricas:
0
Artículo de revista
1
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