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ImpactU Versión 3.10.0
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Hecho en Colombia
Aurore Andrieux
Universidad de Lorena
Centro Nacional para la Investigación Científica
Institut Jean Lamour
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An Optical Diffuse Reflectance Model for the Characterization of a Si Wafer with an Evaporated SiO2 Layer
Acceso Abierto
ART-ART_A1
ID Minciencias: ART-0000749257-63
Fuente: Sensors
Artur Zarzycki
July Andrea Galeano Zea
Sylwester Bargiel
Aurore Andrieux
Christophe Gorecki
Temas:
Wafer
Materials science
Layer (electronics)
Optoelectronics
Silicon
Reflectivity
Thin film
Characterization (materials science)
Coating
Silicon dioxide
Optics
Composite material
Nanotechnology
Physics
Publicado: 2019
Citaciones:
3
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0
Artículo de revista
1
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