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ImpactU Versión 3.10.0
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Hecho en Colombia
Josefina Arellano
Universidad de Texas en Dallas
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Analysis of H 2 and SiH 4 in the Deposition of pm-Si:H Thin Films by PECVD Process for Solar Cell Applications
Acceso Abierto
ART-ART_B
ID Minciencias: ART-0000191728-91
Fuente: Microscopy and Microanalysis
Jairo Plaza Castillo
Abel Garcia Barrientos
Miriam Moreno Moreno
Josefina Arellano
K Y Vizcaíno
Jose Luis Bernal Ponce
Temas:
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Materials science
Solar cell
Deposition (geology)
Thin film solar cell
Process (computing)
Thin film
Optoelectronics
Chemical engineering
Nanotechnology
Engineering
Computer science
Geology
Paleontology
Sediment
Operating system
Publicado: 2016
Citaciones:
1
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Artículo de revista
1
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