Resumen Se depositaron peliculas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el metodo de magnetron sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarizacion bias d.c. sobre las peliculas obtenidas. Los analisis de EDS mostraron que las diferentes peliculas presentaron composiciones de Al y N entre 89% y 85% y 10% y 14%, respectivamente. Por medio de analisis de FTIR, se encontro la presencia de modos activos alrededor de 680 cm -1 asociados a la fase wurtzita del AlN, y alrededor de 600, 950 y 980 cm -1 asociados a estructuras amorfas de Al-N y oxidos en las peliculas. Las propiedades electroquimicas de los recubrimientos crecidos a diferentes voltajes bias fueron comparadas con el sustrato de acero RUS-3, mediante la espectroscopia de impedancia electroquimica (EIS) y con curvas de polarizacion Tafel. La velocidad de corrosion de las muestras depositadas a 0V y -80V (9.5 y 27.9 mpy, respectivamente) fueron menores que la del acero sin recubrir (33.1 mpy), mostrando el efecto protector de la capa de AlN depositada. Palabras claves: nitruro de aluminio, magnetron sputtering, propiedades electroquimicas.