Bismuth oxide thin films (250 nm) were deposited via unbalanced DC magnetron sputtering on Ti-6Al:4V, and common glass substrates. After being deposited, the films were heated (annealed) for 1 h between 473 and 1073 K in steps of 100 K. The morphology was characterized via scanning electron microscopy (SEM), the micro-structure was analyzed through x-ray diffraction (XRD), and the electrochemical behavior was analyzed with the potentiodynamic polarization test. Additionally, a proton-induced X-ray emission (PIXE) test was done on one of the samples in order to check the chemical distribution of the elements in the surface. The SEM and XRD analyses showed that the post-annealing process affects both the morphology and the structure of the films for all the samples. Finally, the electrochemical tests showed that films grown at 773 K have the highest degree of corrosion resistance. Peliculas delgadas de oxido de bismuto (250 nm) fueron depositadas mediante sputtering DC con magnetron desbalanceado sobre sustratos de Ti-6Al:4V y vidrio comun. Despues de ser depositadas, las peliculas fueron calentadas (tratamiento termico) durante 1 h entre 473 y 1073 K en pasos de 100 K. La morfologia fue caracterizada mediante microscopia electronica de barrido (MEB), la micro estructura se analizo por difraccion de rayos x (DRX), y el comportamiento electroquimico se analizo con la prueba de polarizacion potencio-dinamica. Ademas, se realizo una prueba de emision de rayos x inducida por protones (PIXE) en una de las muestras para comprobar la distribucion quimica de los elementos en la superficie. Los analisis MEB y DRX mostraron que el tratamiento termico posterior afecta a la morfologia y la estructura de las peliculas para todas las muestras. Finalmente, los ensayos electroquimicos mostraron que peliculas crecidas a 773 K tienen el mas alto grado de resistencia a la corrosion.