Se depositaron peliculas delgadas de Nitruro de Niobio (NbN) y Nitruro de Niobio Aluminio (A1-Nb-N) sobre sustratos de silicio (100) y de acero AISI 4140 mediante un sistema multiblanco magnetron sputtering con r.f. (13.56 MHz), a partir de blancos de Nb y de Al de alta pureza (99.99%) en una atmosfera de Ar/N2, para diferentes voltajes de polarizacion del sustrato, con el fin de estudiar su efecto sobre la estructura cristalina y las propiedades electroquimicas. El acero 4140 se utiliza ampliamente en la fabricacion de partes de maquinas con durezas entre 2535 Rockwell C, pero presenta la desventaja de que su vida util se ve limitada por su baja resistencia al desgaste y a la corrosion. El patron de XRD muestra de manera predominante los picos de Bragg de los planos (200) de la fase FCC del AlNbN, (200) de la fase hexagonal δ’NbN y (200) de la fase hexagonal del AlN. Mediante analisis de FTIR se pudo determinar los modos activos asociados a los enlaces NbN, AlN y AlNbN. Se caracterizaron muestras de acero AISI 4140 con y sin recubrimiento de AlNbN mediante Espectroscopia de Impedancia Electroquimica (EIS) y curvas de polarizacion Tafel. Se encontro una dependencia del voltaje de polarizacion sobre velocidad de corrosion para peliculas de AlNbN.