La deposicion quimica de vapor por lecho fl uidizado (CVD-FBR) es una variante de la tecnica de deposicion quimica de vapor; que combina las ventajas de la activacion termica por calentamiento y el lecho fl uidizado. Los recubrimientos mediante CVD-FBR son ampliamente investigados y usados debido a la necesidad de proteger superfi cialmente los componentes que operan a altas temperaturas, el cual ha aumentado perceptiblemente. Ademas, tiene la ventaja de ser una tecnica de bajo costo, puede controlar con relativa facilidad la composicion del material depositado, permitiendo realizar recubrimientos con una orientacion preferente que permite la obtencion de intercaras con propiedades anisotropicas; estos son depositados a bajas temperaturas y a la presion atmosferica.