En este trabajo se presentan los resultados de recubrimientos de Cr y CrN depositados mediante la tecnica de sputtering reactivo DC con magnetron desbalanceado. Los recubrimientos fueron producidos a diferentes temperaturas (100, 300 y 500 o C) sobre acero AISI H13 y silicio (100). Los recubrimientos con espesores < 1 μ m fueron analizados por Difraccion de Rayos X (DRX) y Microscopia Electronica de Barrido (SEM). Los picos de difraccion en los espectros de rayos X de ambos recubrimientos presentaron leves corrimientos en funcion de la temperatura del sustrato, lo que seria indicativo de la presencia de esfuerzos compresivos, los cuales incrementan con el aumento de la temperatura. Adicionalmente los analisis por SEM, mostraron que las superficies recubiertas a temperaturas < 500 o C, estan caracterizadas principalmente por una morfologia con apariencia lisa, compacta, homogenea y con crecimiento columnar; sin evidencia de microgrietas, ni delaminacion, lo que sugiere, en este rango de temperaturas, una leve influencia de la temperatura del sustrato. Por el contrario las muestras preparadas a 500 o C presentaron la presencia de granos de mayor tamano y a un crecimiento mas compacto.