En el presente estudio se depositaron peliculas delgadas amorfas de nitruro de carbono a-CNx utilizando un blanco de grafito pirolitico con una pureza de 5N, sobre substratos de silicio (100) en una atmosfera de gas de nitrogeno, usando la tecnica de deposito por laser pulsado. Las peliculas de a-CNx se crecieron a diferentes temperaturas del substrato y diferentes presiones del gas nitrogeno; se utilizo un laser Nd:YAG con una fluencia de 10 J/cm 2 . Las peliculas fueron caracterizadas por espectroscopia µ-Raman y con microanalisis por energia dispersiva de rayos X (EDX). Los espectros Raman muestran los picos caracteristicos de carbono amorfo D (1354 cm -1 ) y el pico G (1555 cm -1 ), que corresponden a enlaces sp 2 . Las intensidades de los picos caracteristicos (ID/IG) en los espectros Raman indican que con el incremento de la temperatura del substrato y de la presion del gas de nitrogeno la relacion entre las intensidades de los picos D y G (ID/IG) aumenta. El analisis EDX confirma la presencia de los elementos depositados C, N. La pluma del plasma producido por el laser fue caracterizada mediante espectroscopia de emision optica. En los espectros de emision se identificaron especies atomicas (carbono y nitrogeno) y moleculares de CN.