Bismuth-silicon-oxygen-based thin films were prepared via an unbalanced magnetron sputtering system in a reactive atmosphere with a mixture of argon and oxygen at room temperature. It is clear that this technique is highly environmentally friendly and does not produce toxic products or gases during or after the process. These films exhibited high homogeneity and constant thickness around 200 nm. The structural properties of the films were analyzed by means of X-ray diffraction, which mainly showed the presence of bismuth and bismuth oxide. As for the morphological properties, con-focal microscopy measurements showed good homogeneity over the surface as well as low average roughness, which indicates good thickness uniformity. Se produjeron peliculas delgadas de bismuto-silicio-oxigeno por medio de un sistema de deposicion fisica de vapores asistido por plasma y con un magnetron desbalanceado (UBM por sus siglas en ingles) con atmosfera reactiva de argon y oxigeno, y a temperatura ambiente. Las peliculas mostraron alta homogeneidad y espesor constante de aproximadamente 200 nm. Las propiedades estructurales de las peliculas fueron analizadas mediante difraccion de rayos X en donde se evidencia la alta presencia de bismuto y oxido de bismuto. En cuanto a lo que tiene que ver con las propiedades morfologicas se hicieron medidas de microscopia con-focal donde se evidencia la buena homogeneidad de las peliculas sobre la superficie y la baja rugosidad promedio que a su vez indica buena uniformidad del espesor.