Atomic Force Microscopy (AFM) was used to observe the growth stages of both buffer layers and Y-Ba-Cu-O films on three different substrates: Si (100) and MgO (100) for crystalline ones and fused silica for the amorphous type. In order to compare the benefits of buffer layers, YSZ was grown on the three different substrates and AFM topographies were made at each stage of growth: Bare substrate, YSZ films on bare substrates, Y-Ba-Cu-O/YSZ films and Y-Ba-Cu-O on bare substrates. An Ultrasonic Spray Pyrolysis system was used to deposit all the films and layers. Films grown on buffer layers present smoother surfaces than those grown on bare substrates. Se utilizo Microscopia de Fuerza Atomica (AFM) para observar por etapas el crecimiento de capas bufer y peliculas de Y-Ba-Cu-O sobre tres sustratos diferentes: Si (100) y MgO (100) como sustratos cristalinos y cuarzo como sustrato amorfo. Para comparar los beneficios de la capa bufer, se deposito YSZ sobre los tres sustratos mencionados y fueron caracterizados por topografia AFM en cada etapa del crecimiento: Sustratos, capa bufer de YSZ sobre el sustrato, peliculas de Y-Ba-Cu-O sobre YSZ en cada sustrato y peliculas de Y-Ba-Cu-O sobre cada uno de los sustratos. Las capas bufer de YSZ y las peliculas de Y-Ba-Cu-O se depositaron por medio de Rocio Pirolitico Ultrasonico. Las peliculas crecidas sobre las capas bufer presentan una superficie menos rugosa que aquellas crecidas sobre los sustratos sin capa bufer.