Se depositaron peliculas delgadas de Nitruro de Niobio (NbN) sobre silicio (100) y substratos de acero inoxidable AISI 304 mediante un sistema multi-blanco magnetron sputtering con r.f. (13.56 MHz), a partir de un blanco de Nb de alta pureza (99.99%) en una atmosfera compuesta de Ar/N2, con el fin de estudiar el efecto del voltaje de polarizacion en el proceso de deposicion, sobre la velocidad de degradacion de estas peliculas. Mediante espectroscopia de difraccion de rayos X (XRD) se analizo la cristalinidad de las peliculas de los analisis por FTIR se encontraron modos activos alrededor de 600 cm-1 asociados a los enlaces Nb-N. Se caracterizaron muestras de acero AISI 304 con y sin recubrimiento de NbN mediante Es-pectroscopia de Impedancia Electroquimica (EIS) y curvas de polarizacion Tafel. Se encontro que la velocidad de corrosion tuvo una disminucion del 66% en el acero recubierto con NbN a un voltaje de polarizacion de 0 V en comparacion al acero sin recubrir. Sin embargo al aumentar el voltaje de polarizacion a -100V, se observa que la velocidad de corrosion es 3 ve-ces mayor respecto a la del recubrimiento de NbN a 0V, lo cual evidencia el efecto nocivo del voltaje bias en las peliculas de NbN.