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Effect of annealing treatment on the photocatalytic activity of TiO2 thin films deposited by dc reactive magnetron sputtering

Ranking: ART-GC_ART

Idioma: Inglés

Publicado: 01/09/2015

APC (est): No disponible

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FuenteNo disponible	Cuartil año de publicaciónNo disponible	Volumen614
IssueN/A	Páginas1 - 7	pISSNNo disponible
ISSNNo disponible	Perfil OpenAlexNo disponible

Scienti ID	0000000574-331	Doi URL	https://doi.org/10.1088/1742-6596/614/1/012008/pdf	Scienti URL	http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1742-6596/614/1/012008/pdf

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