Mediante el depósito secuencial de películas delgadas de SnSe (110 nm)-ZnSe (90 nm)-Cu2-xSe (55 nm) depositadas químicamente y con un post-tratamiento térmico en presencia de polvo de Selenio a 400 °C y 10 Torr se forma una película delgada de Cu2ZnSnSe4 de 205 nm de espesor. A partir de la medición de difracción de rayos X se comprueba la formación de la película delgada de Cu2ZnSnsSe4 sin la identificación de fases secundarias. El material tiene una brecha de energía de 0.84 eV, una conductividad eléctrica de 0.2 Ω^-1 cm^-1, con movlidad de huecos de 60 cm^2 V^-1 s^-1y concentración de portadores de huecos de 2 x10^16 cm^-3.