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Twisted-motion substrate with sustained azimuthal rotation effect on the growth of AZO thin films by rf-sputtering

Acceso Cerrado

Idioma: Inglés

Publicado: 18/02/2021

APC (est): No disponible

Abstract no disponible

ZnO doping and properties

FuenteOptik	Cuartil año de publicaciónNo disponible	Volumen234
IssueNo disponible	Páginas166561 - 166561	pISSNNo disponible
ISSN1618-1336	Perfil OpenAlexhttps://openalex.org/S201441698

Scienti ID	0001334326-25	Scienti ID	0000031542-177	Scienti URL	https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0030402621002862
Scholar citations URL	https://scholar.google.com/scholar?cites=9291536146943912685&as_sdt=2005&sciodt=0,5&hl=en	Openalex URL	https://openalex.org/W3129446897	Scholar URL	https://scholar.google.com/scholar?hl=en&as_sdt=0%2C5&q=info%3A7SpLoOUq8oAJ%3Ascholar.google.com&btnG=
Doi URL	https://doi.org/10.1016/j.ijleo.2021.166561	Pdf URL	https://www.researchgate.net/profile/I-Perez-2/publication/349407971_Twisted-motion_substrate_with_sustained_azimuthal_rotation_effect_on_the_growth_of_AZO_thin_films_by_rf-sputtering/links/60412478299bf1e07856ef5a/Twisted-motion-substrate-with-sustained-azimuthal-rotation-effect-on-the-growth-of-AZO-thin-films-by-rf-sputtering.pdf

Artículo de revista