Películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase vapor asistida por plasma, utilizando una fuente de corriente directa pulsada asimétrica (DC-pulsada PACVD). Las películas fueron crecidas sobre sustratos de silicio empleando metano como gas precursor y una presión de trabajo de 10 Pa. El estudio fue realizado variando la tensión negativa de autopolarización aplicada al cátodo. Los resultados obtenidos muestran que fue posible obtener recubrimientos protectores de a-C:H con una aceptable tasa de depósito, así como con propiedades atrayentes en cuanto a su microestructura y propiedades mecánicas.