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Base de Datos: 29/08/2025
Hecho en Colombia
Characterization of chemically-deposited aluminum-doped CdS thin films with post-deposition thermal annealing
Acceso Cerrado
Idioma: Inglés
Publicado: 24/12/2016
APC (est):
No disponible
Arturo Felipe Fernández Pérez
Carlos Navarrete
Paulina Valenzuela
William Gacitua
EDGAR EDUARDO MOSQUERA VARGAS
Henry A Fernandez
JSON
HTML
BibTeX
Abstract:
Abstract no disponible
Tópico:
Chalcogenide Semiconductor Thin Films
Citaciones:
37
Citaciones por año:
Altmétricas:
0
Información de la Fuente:
Fuente
Thin Solid Films
Cuartil año de publicación
No disponible
Volumen
623
Issue
No disponible
Páginas
127 - 134
pISSN
No disponible
ISSN
0040-6090
Perfil OpenAlex
https://openalex.org/S84339699
Enlaces e Identificadores:
Scienti ID
0000960748-31
Scholar citations URL
https://scholar.google.com/scholar?cites=3917958023833864450&as_sdt=5,33&sciodt=0,33&hl=en
Scienti URL
https://www.researchgate.net/publication/311891817_Characterization_of_chemically-deposited_aluminum-doped_CdS_thin_films_with_post-deposition_thermal_annealing
Doi URL
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.12.036
Openalex URL
https://openalex.org/W2567673592
Scholar URL
https://scholar.google.com/scholar?hl=en&as_sdt=0%2C5&q=info%3AAkmCfxBiXzYJ%3Ascholar.google.com&btnG=
Artículo de revista
