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Thermodynamical analysis of Al and Si halide gaseous precursors in CVD. Review and approximation for deposition at moderate temperature in FBR-CVD process

Acceso Cerrado

ID Minciencias: ART-0000048038-14713

Ranking: ART-ART_A1

Idioma: Inglés

Publicado: 25/07/2006

APC (est): No disponible

Abstract no disponible

Metal and Thin Film Mechanics

FuenteSurface and Coatings Technology	Cuartil año de publicaciónNo disponible	Volumen201
Issue6	Páginas2475 - 2483	pISSNNo disponible
ISSN0257-8972	Perfil OpenAlexhttps://openalex.org/S76010543

Minciencias ID	ART-0000048038-14713	Scienti ID	0000048038-14713	Scienti URL	http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TVV-4KGG5ND-1&_user=144492&_coverDate=07%2F24%2F2006&_alid=429495413&_rdoc=1&_fmt=summary&_orig=search&_cdi=5544&_sort=d&_st=4&_docanchor=&_acct=C000012038&_version=1&_urlVersion=0&_userid=14
Openalex URL	https://openalex.org/W1980463902	Doi URL	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.04.018	Scholar URL	https://scholar.google.com/scholar?hl=en&as_sdt=0%2C5&q=info%3AVVf3F9NdzL0J%3Ascholar.google.com&btnG=
Scholar citations URL	https://scholar.google.com/scholar?cites=13676409329638922069&as_sdt=2005&sciodt=0,5&hl=en

Artículo de revista