Se estudió el efecto del tipo de llama, del tipo de sustrato y de la distancia de proyección sobre la porosidad y el espesor de recubrimientos de silicio depositados por medio de proyección térmica por llama oxiacetilénica. Para la elaboración de los recubrimientos se utilizó una llama reductora, una neutra y una oxidante, con el objetivo de calentar y posteriormente proyectar las partículas de silicio sobre sustratos de aluminio y de Ti6Al4V, a una distancia de proyección de 15 cm y 8.5 cm. Los resultados indican que los recubrimientos depositados a 8.5 cm son más compactos y que la utilización de una llama neutra reduce ligeramente la porosidad y permite tener capas más gruesas. Así mismo, los recubrimientos depositados sobre sustratos de Ti6Al4V presentaron menor porosidad y menos fallas estructurales que los depositados sobre aluminio.