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Hecho en Colombia
J Holleman
Universidad de Twente
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Heat transport in cold-wall single-wafer low pressure chemical-vapor-deposition reactors
Acceso Abierto
Fuente: Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
A Hasper
Jurriaan Schmitz
J Holleman
J F Verwey
Temas:
Susceptor
Wafer
Chemical vapor deposition
Materials science
Thermal conduction
Tungsten
Deposition (geology)
Chemistry
Composite material
Optoelectronics
Metallurgy
Layer (electronics)
Epitaxy
Paleontology
Sediment
Biology
Publicado: 1992
Citaciones:
11
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0
Artículo de revista
1
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