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Base de Datos: 26/06/2025
Hecho en Colombia
Robert J Kee
Escuela de Minas de Colorado
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A Mathematical Model of the Coupled Fluid Mechanics and Chemical Kinetics in a Chemical Vapor Deposition Reactor
Acceso Cerrado
Fuente: Journal of The Electrochemical Society
Michael E Coltrin
Robert J Kee
James A Miller
Temas:
Susceptor
Chemical vapor deposition
Silane
Silicon
Chemical reaction
Chemical kinetics
Deposition (geology)
Chemistry
Chemical reactor
Thermodynamics
Thermal decomposition
Kinetics
Decomposition
Chemical engineering
Materials science
Layer (electronics)
Epitaxy
Organic chemistry
Physics
Paleontology
Sediment
Engineering
Quantum mechanics
Biology
Publicado: 1984
Citaciones:
338
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Artículo de revista
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