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Asuncion Fernandez
Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla
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Ion beam induced chemical vapor deposition procedure for the preparation of oxide thin films. I. Preparation and characterization of TiO2 thin films
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Fuente: Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
Dietmar Leinen
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Mixing effects in CeO2/TiO2 and CeO2/SiO2 systems submitted to Ar+ sputtering
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Carlos Andrés García Negrete
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Asuncion Fernandez
Tópico:
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Publicado: 2019
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1
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