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Gottlieb Oehrlein
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Fluorocarbon high density plasma. V. Influence of aspect ratio on the etch rate of silicon dioxide in an electron cyclotron resonance plasma
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Fuente: Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
olivier JOUBERT
Gottlieb Oehrlein
Y Zhang
Tópico:
Plasma Diagnostics and Applications
Publicado: 1994
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62
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