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ImpactU Versión 3.10.0
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Base de Datos: 26/06/2025
Hecho en Colombia
Luis Gallego Martinez
Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares
Perfil externo:
Citaciones:
21
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Residual stresses in titanium nitride thin films obtained with step variation of substrate bias voltage during deposition
Acceso Abierto
ART-ART_A1
ID Minciencias: ART-0001192710-24
Fuente: Surface and Coatings Technology
Adriana Gomez Gomez
Abel Andre Candido Recco
Nelson Batista de Lima
Luis Gallego Martinez
André Paulo Tschiptschin
Roberto M Souza
Temas:
Materials science
Residual stress
Titanium nitride
Composite material
Biasing
Sputter deposition
Substrate (aquarium)
Tin
Nitride
Stress (linguistics)
Sputtering
Thin film
Voltage
Optics
Layer (electronics)
Metallurgy
Electrical engineering
Oceanography
Geology
Nanotechnology
Engineering
Linguistics
Philosophy
Physics
Publicado: 2010
Citaciones:
21
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0
Artículo de revista
1
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